Screen Holdings Co., Ltd · TSE:7735
Screen — FY2006 Earnings Presentation
19 slides from Screen's earnings presentation, May 17, 2006
Slide 1: 2006年3月期決算説明会 半導体製造装置事業について
2006年3月期決算説明会 半導体製造装置事業について 2006年5月17日 取締役副会長 半導体機器カンパニー社長 末武 隆成 資料の取り扱い上の注意 本資料および口頭にて提供する将来の当社業績見通しは、直近で知り得る情報をもとに作成したものであります。 しかしながら、世界経済やエレクトロニクス業界の技術変化、半導体の市況およびＦＰＤのパネル市況など、当社を取り巻く事業環境は急速に変 化いたします。つきましては、今後当社の業績見通しが本資料と異なる可能性がございます。 1
Slide 2: Synchronize!
Synchronize! 2006243 A EA see lC DLT
Slide 3: 年間売上高推移（連結）
半導体製造装置 年間売上高推移（連結） 当期は、活況であった前期に比べ、期初17％減少の予想でスタートしたが、その後の 市場の回復や販売強化により、前期比７％の減少に縮小 1,600 （億円） 1,400 上期 下期 1,225 1,200 1,144 1,014 1,000 800 748 777 634 600 400 200 0 2001/4- 2002/4- 2003.4- 2004/4- 2005/4- 期初予想 2002/3 2003/3 2004.3 2005/3 2006/3 3
Slide 4: 地域別年間売上高推移（単独）
半導体製造装置 地域別年間売上高推移（単独） 当期は前期に比べ、欧米は増加したが、アジアが減少 （億円） 500 450 2004/3期 2005/3期 2006/3期 400 350 300 250 200 150 100 50 0 日本 米国 欧州 台湾 韓国 中国 東南アジア 4
Slide 5: 主要製品別年間売上高推移（単独）
半導体製造装置 主要製品別年間売上高推移（単独） 当期は前期に比べ、スピンナー、ウェットステーションともに減少 （億円） ただし、詳細を見ると、枚葉式洗浄装置、ＦＬＡは増加 600 2004/3期 2005/3期 2006/3期 500 400 300 200 100 0 スピンナー ウェットステーション その他 スピンナーとはコータ・デベロッパと枚葉式洗浄装置を、ウェットステーションはバッチ式洗浄装置を、 その他とはスピンナー、ウェットステーション以外の装置および荷造・運賃・作業をそれぞれ示している。 5
Slide 6: 地域別四半期受注高推移（単独）
半導体製造装置 地域別四半期受注高推移（単独） 下期より急速に増加 下期は全地域において上期を上回った。特に、日本、アジアがけん引 450（億円） 日本 台湾 韓国 中国 その他アジア 米国 欧州 400 350 300 250 200 150 100 50 0 2003/4-6 7-9 10-12 2004/1-3 4-6 7-9 10-12 2005/1-3 4-6 7-9 10-12 2006/1-3 2006/3月期 2004/3月期 2005/3月期 6
Slide 7: デバイス分類別四半期売上・受注比率推移（単独）
半導体製造装置 デバイス分類別四半期売上・受注比率推移（単独） 受注 売上 100% 100% 90% 90% 80% 80% 70% 70% 60% 60% 50% 50% 40% 40% 30% 30% 20% 20% 10% 10% 0% 4-6 10-12 2006・1-3 0% 2004・4-6 7-9 10-12 2005・1-3 7-9 2004・4-6 7-9 10-12 2005・1-3 4-6 7-9 10-12 2006・1-3 2005/3月期 2006/3月期 2005/3月期 2006/3月期 画像素子 ｼｽﾃﾑＬＳＩ ﾌｧﾝﾄﾞﾘｰ ﾒﾓﾘｰ ﾛｼﾞｯｸ その他
Slide 8: 主要製品シェアの推移
半導体製造装置 主要製品シェアの推移 ウェットステーション（バッチ式）、枚葉式洗浄装置はともにシェアアップ ただし、コータ・デベロッパはダウン 50 （％） 45.5 48.8 42.1 ウェットステーション 40 41.0 36.6 40.5 枚葉式洗浄装置 30 35.1 25.1 20 8.1 12.0 10 15.1 12.5 コータ･デベロッパ 0 2002 2003 2004 2005 （暦年） 出所：ウェットステーション、コータ・デベロッパ：データクエスト 枚葉式洗浄装置：当社推定、ただし、２００５年はともに当社推定 8
Slide 9: Synchronize!
Synchronize! SEOMOHAICDIVT
Slide 10: 日本製半導体製造装置販売高予測（ウエハープロセス用処理装置）
日本製半導体製造装置販売高予測 （ウエハープロセス用処理装置） 2006年度から2008年度まで順調に推移すると予想 （億円） 14,000 80 （％） 12,000 60 10,000 40 8,000 20 6,000 0 4,000 -20 2,000 -40 出所：SEAJ 2006年1月 0 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005E 2006E 2007E 2008E -60 販売高 7,963 5,215 6,926 11,727 6,649 5,667 7,362 10,358 9,494 10,246 11,370 12,61
Slide 11: 年間売上高推移（連結）
半導体製造装置 年間売上高推移（連結） （億円） 1,600 1,435 1,400 上期 下期 1,225 1,200 1,144 1,000 800 748 777 634 600 400 200 0 2001/4- 2002/4- 2003.4- 2004/4- 2005/4- 2006/4- 2002/3 2003/3 2004.3 2005/3 2006/3 2007/3 （予想） 11
Slide 12: 今後の重点施策
今後の重点施策 • アジア地域でのさらなるプレゼンスの向上 • 洗浄装置でのさらなるシェアアップ • フラッシュランプアニールの売上げ向上 • 半導体関連コータ・デベロッパ事業部門を分割し、 新設会社とアプライドマテリアルズ社との業務・ 資本提携により事業再構築 12
Slide 13: アジア地域でのさらなるプレゼンスの向上
アジア地域でのさらなるプレゼンスの向上 地域別半導体市場比率(SIA) SCREENの地域別受注高推移 450 日本 台湾 韓国 中国 その他アジア 米国 欧州 400 350 300 250 200 150 100 アジアの比率拡大が顕著 50 特に日本を除くアジア地域 0 2003/4-6 7-9 10-12 2004/1-3 4-6 7-9 10-12 2005/1-3 4-6 7-9 10-12 2006/1-3 13
Slide 14: CMPと洗浄装置に高い伸び率を予想
半導体製造装置別(ウエハー処理プロセス) 予想成長率比較 80% 2005 装置別マ ー ケッ トサイ ズ 2008 ウエハ処理処理装置 露光装置 ウエハ処理装置合計 100.0% 100.0% レジスト塗布・現像装置 露光装置 20.2% 19.3% エッチャ 70% 洗浄装置 レジス ト塗布･ 現像装置 8 .5 % 7 .8 % 熱処理装置 エッチャ 13.9% 13.2% イオン注入装置 CVD装置 洗浄装置 7 .1 % 8 .4 % スパッタ 60% 熱処理装置 4.8% 4.6% ウエハ検査装置 CMP装置 イオン注入装置 5.1% 5.6% CVD装置 11.9% 11.8%
Slide 15: 洗浄装置でのさらなるシェアアップ
洗浄装置でのさらなるシェアアップ • FC-3000⇒FC-3100への移行 • 生産性の高い枚葉式洗浄装置の市場への投入 • 生産能力の増強（「Fab.FC-2」建設) さらなるシェアアップと収益性向上を目指す さらなるシェアアップと収益性向上を目指す 15
Slide 16: フラッシュランプアニールの売上拡大
フラッシュランプアニールの売上拡大 （億円） （社） 70 5 売上高(単独） 60 顧客数 4 50 3 40 30 2 20 1 10 0 0 2003/4-2004/3 2004/4-2005/3 2005/4-2006/3 2006/4-2007/3E （予想） 16
Slide 17: 半導体関連コータ・デベロッパ事業の分社化とアプライドマテリアルズ社との提携
当社半導体関連コータ・デベロッパ事業部門の分社化および 新設会社とアプライドマテリアルズ社との業務・資本提携 半導体関連 コータ・デベロッパ事業 新設会社 新設会社の概要（分割時） 商 号 ：株式会社SOKUDO（仮称） 会社分割 設立日 ：2006年7月3日（予定） （簡易分割） 本 店 ：京都市 代表者 ：代表取締役社長 末武 隆成 資本金 ：1,000万円 主事業 ：半導体関連コータ・デベロッパ に関する開発、製造、販売、保守 第三者 従業員数：約160名（予定） 割当増資 ジョイントベンチャー 第三者割当増資 スクリーン ｱﾌﾟﾗｲﾄﾞ ﾏﾃﾘｱﾙｽﾞ社 半導体関連 52％ 48％ ジ
Slide 18: 当社半導体関連コータ・デベロッパ事業の現状
当社半導体関連コータ・デベロッパ事業の現状 当社の半導体関連コータデベロッパ事業は 直近では市場シェアが10％台で低迷 （Ｍ＄） 半導体関連コータ・デベロッパの市場規模と当社の市場シェア推移 （％） 2,500 100 90 市場シェア（折れ線グラフ） 市場規模（棒グラフ） 2,000 80 70 1,500 60 50 1,000 40 30 500 20 10 0 0 1995 1996 1997 1998 1999 2000 2001 2002 2003 2004 2005 （暦年） 18
Slide 19: 当社半導体関連コータ・デベロッパ事業の課題
当社半導体関連コータ・デベロッパ事業の課題 ・市場シェアの低迷により当社の半導体関連コータ・デベロッパ事業は厳しい状況 ・次世代への大型投資を行いながら、新規参入を狙うメーカへも対応していかなければ ならない 液浸リソグラフィーへの本格投資開始 液浸リソグラフィーへの本格投資開始 ＥＵＶを含む次世代リソグラフィー開発本格化 ＥＵＶを含む次世代リソグラフィー開発本格化 市場 次世代装置の開発投資負担の増加 次世代装置の開発投資負担の増加 大型投資が必要 大型投資が必要 シェアの低迷 シェアの低迷 競合 新規参入のリスク 新規参入のリスク 当社 技術力で評価されるが、シェア拡大にはいたらず 技術力